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供应双路运算放大器 NJM4560(NJM4560M) NJM4580 JRC原装进口

2017-8-17 8:01:00
  • 型号: NJM4560(NJM4560M) 厂家:JRC 封装:DMP8 NJM4560集成电路是个高增益、宽带宽的双路运算放大器,它能够驱动20V峰峰到400Ω负载。NJM4560结合了NJM4558的许多特点,并能够提供更宽的带宽和更高的斜率,使得NJM4560非常适用于有源滤

型号: NJM4560(NJM4560M)

厂家:JRC

封装:DMP8

NJM4560集成电路是个高增益、宽带宽的双路运算放大器,它能够驱动20V峰峰到400Ω负载。NJM4560结合了NJM4558的许多特点,并能够提供更宽的带宽和更高的斜率,使得NJM4560非常适用于有源滤波器、数据和远程通信,以及许多乐器应用。NJM4560可采用表面贴装微型封装方式,所以它可用在需要高密度安装的关键应用中。

NJM4560(NJM4560M) 特征

工作电压 (±4V到±18V)

宽增益带宽积 (一般为10MHz)

转换速率 (一般为4V/μs)

封装 (DIP8,DMP8,EMP8,SIP8)

双极技术

NJM4560(NJM4560M) 可靠性试验例子(Bipolar,C-MOS,GaAs) 试验项目 试验方法

EIAJ ED-4701

试 验 条 件

高温保存试验 201 Tstgmax,1000h

低温保存试验 202 Tstgmin,1000h

高温高湿度保存试验 103 85℃, 85%, 1000h

连续动作试验 101 Tj=Tstgmax, 电压=最大额定, 1000h

高温高湿度偏差试验(THB) 102 85℃, 85%, 电压=最大额定, 1000h

(实施预处理1)

饱和蒸汽加压试验(PCT) -

Bipolar , C-MOS 121℃, 2.03×105Pa, 100%, 100h

(实施预处理1)

GaAs 121℃, 2.03×105Pa, 100%,40h

(实施预处理1)

焊锡耐热性试验 301 焊锡回焊(reflow):峰值温度260℃×2次

(实施预处理2)

热冲击试验 307 0℃ 5min ~100℃ 5min10循环

(实施预处理1)

温度循环试验 105 Tstg min 30min~25℃ 5min~Tstg max 30min, 100循环

(实施预处理1)

焊锡附着性试验 - Sn-37Pb:230℃, 5s (使用非活性焊剂)

Sn-3Ag-0.5Cu:245℃, 5s (使用非活性焊剂)

(实施预处理3)

静电破坏试验

- Bipolar , C-MOS C=100pF, R=1.5kΩ, 试验电压 V=±1000V

GaAs C=200pF, R=0Ω, 试验电压 V=±50V

试验项目 试验方法

EIAJ ED-4701

试 验 条 件

高温保存试验 201 Tstgmax,1000h

低温保存试验 202 Tstgmin,1000h

高温高湿度保存试验 103 85℃, 85%, 1000h

连续动作试验 101 Tj=Tstgmax, 电压=最大额定, 1000h

高温高湿度偏差试验(THB) 102 85℃, 85%, 电压=最大额定, 1000h

(实施预处理1)

饱和蒸汽加压试验(PCT) -

Bipolar , C-MOS 121℃, 2.03×105Pa, 100%, 100h

(实施预处理1)

GaAs 121℃, 2.03×105Pa, 100%,40h

(实施预处理1)

焊锡耐热性试验 301 焊锡回焊(reflow):峰值温度260℃×2次

(实施预处理2)

热冲击试验 307 0℃ 5min ~100℃ 5min10循环

(实施预处理1)

温度循环试验 105 Tstg min 30min~25℃ 5min~Tstg max 30min, 100循环

(实施预处理1)

焊锡附着性试验 - Sn-37Pb:230℃, 5s (使用非活性焊剂)

Sn-3Ag-0.5Cu:245℃, 5s (使用非活性焊剂)

(实施预处理3)

静电破坏试验

- Bipolar , C-MOS C=100pF, R=1.5kΩ, 试验电压 V=±1000V

GaAs C=200pF, R=0Ω, 试验电压 V=±50V