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PT4606M

沟槽型功率场效应管

HTSEMI

金誉半导体

RN4606

Silicon PNP Epitaxial Type (PCT Process) Silicon NPN Epitaxial Type (PCT Process)

文件:159.77 Kbytes 页数:4 Pages

TOSHIBA

东芝

RN4606

Silicon PNP Epitaxial Type (PCT Process) Silicon NPN Epitaxial Type (PCT Process)

文件:250.46 Kbytes 页数:5 Pages

TOSHIBA

东芝

S4606ZA

N- and P-Channel 30 V (D-S) MOSFET

文件:1.23301 Mbytes 页数:14 Pages

VBSEMI

微碧半导体

技术参数

  • 工艺:

    沟槽型

  • 沟道类型:

    N+P

  • 防静电ESD:

  • 漏源耐压Vds(V):

    30.000

  • 栅源耐压Vgs(V):

    ±20

  • 阈值电压Vth(V)TYP:

    1.600

  • 电流ID(A):

    5.800

  • 导通电阻Rds (on) (mΩ max) at Vgs=10V:

    31

  • 导通电阻Rds (on) (mΩ max) at Vgs=4.5V:

    43

  • 导通电阻Rds (on) (mΩ max) at Vgs=1.8V:

    0

  • 规格书:

    0

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更多PT4606M供应商 更新时间2026-3-17 15:01:00