近日，由北方华创自主研发的12英寸高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备Orion Proxima正式进入客户端验证。
北方华创称，这标志着北方华创在绝缘介质填充工艺技术上实现了新的突破，也为北方华创进军12英寸介质薄膜设备领域，打开百亿级市场迈出了坚实的一步。
北方华创表示，Orion Proxima作为北方华创推出的国产自研高密度等离子体化学气相沉积设备，主要应用于12英寸集成电路芯片的浅沟槽绝缘介质填充工艺，通过沉积-刻蚀-沉积的工艺方式可以有效完成对高深宽比沟槽间隔的绝缘介质填充。现阶段，Orion Proxima技术性能在迭代升级中已达业界先进水平。
封面图片来源：拍信网
声明:本文内容由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表本网立场。文章仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
