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SVF2N60D

N-Channel 650 V (D-S) MOSFET

文件:1.08793 Mbytes 页数:9 Pages

VBSEMI

微碧半导体

SVF2N60D

N-Channel MOSFET uses advanced trench technology

文件:1.7999 Mbytes 页数:5 Pages

DOINGTER

杜因特

SVF2N60CF

N沟道增强型场效应管

SVF2N60CN/M/MJ/F/D N沟道增强型高压功率MOS场效应晶体管采用士兰微电子的F-CellTM平面高压VDMOS工艺技术制造。先进的工艺及元胞结构使得该产品具有较低的导通电阻、优越的开关性能及很高的雪崩击穿耐量。\n\n 该产品可广泛应用于AC-DC开关电源,DC-DC电源转换器,高压H桥PWM马达驱动。 • 2A,600V,RDS(on)(典型值)=3.7Ω@VGS=10V\n• 低栅极电荷量\n• 低反向传输电容\n• 开关速度快\n• 提升了dv/dt 能力;

Silan

士兰微

SVF2N60CM

N沟道增强型场效应管

SVF2N60CN/M/MJ/F/D N沟道增强型高压功率MOS场效应晶体管采用士兰微电子的F-CellTM平面高压VDMOS工艺技术制造。先进的工艺及元胞结构使得该产品具有较低的导通电阻、优越的开关性能及很高的雪崩击穿耐量。\n\n 该产品可广泛应用于AC-DC开关电源,DC-DC电源转换器,高压H桥PWM马达驱动。 • 2A,600V,RDS(on)(典型值)=3.7Ω@VGS=10V\n• 低栅极电荷量\n• 低反向传输电容\n• 开关速度快\n• 提升了dv/dt 能力;

Silan

士兰微

SVF2N60CMJ

N沟道增强型场效应管

SVF2N60CN/M/MJ/F/D N沟道增强型高压功率MOS场效应晶体管采用士兰微电子的F-CellTM平面高压VDMOS工艺技术制造。先进的工艺及元胞结构使得该产品具有较低的导通电阻、优越的开关性能及很高的雪崩击穿耐量。\n\n 该产品可广泛应用于AC-DC开关电源,DC-DC电源转换器,高压H桥PWM马达驱动。 • 2A,600V,RDS(on)(典型值)=3.7Ω@VGS=10V\n• 低栅极电荷量\n• 低反向传输电容\n• 开关速度快\n• 提升了dv/dt 能力;

Silan

士兰微

技术参数

  • Polarity:

    N

  • Vdss (V):

    600

  • Id (A)Tc=25℃:

    2

  • Vgs (th) (V):

    2.0~4.0

  • Rds(on) @10V typ (mΩ):

    3.7

  • Rds (on) @10Vmax (mΩ):

    4.2

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SILAN
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更多SVF2N60供应商 更新时间2025-11-17 16:58:00